宇微光學成功研發(fā)全國產(chǎn)、自主可控的計算光刻OPC軟件，成功填補國內(nèi)空白，加速推動了對芯片制造領域“卡脖子”問題的攻關與突破。協(xié)會會員單位致道資本作為宇微光學天使輪融資的投資方，持續(xù)看好公司發(fā)展前景，鼎力支持宇微光學在未來實現(xiàn)更多自主研發(fā)目標。

“OPC是EDA（電子設計自動化）工業(yè)軟件的一種，沒有這種軟件，即使有光刻機，也造不出芯片。從基礎研究到產(chǎn)業(yè)化應用，我們團隊整整走了十年。十年磨一劍，就是要解決芯片從設計到制造的卡脖子問題?！?/span>

在光谷，華中科技大學教授劉世元創(chuàng)立的宇微光學軟件有限公司（以下簡稱“宇微光學”），已成功研發(fā)全國產(chǎn)、自主可控的計算光刻OPC軟件，填補國內(nèi)空白。目前正在做集成與測試，并到芯片生產(chǎn)廠商做驗證。

劉世元介紹，光刻是芯片制造中最為關鍵的一種工藝，通過光刻成像系統(tǒng)，將設計好的圖形轉(zhuǎn)移到硅片上。隨著芯片尺寸不斷縮小，硅片上的曝光圖形會產(chǎn)生畸變。在90nm甚至180nm以下芯片的光刻制造前，都必須采用一類名為OPC（光學臨近校正）的算法軟件進行優(yōu)化。沒有OPC，所有IC制造廠商將失去將芯片設計轉(zhuǎn)化為芯片產(chǎn)品的能力。

目前，全球OPC工具軟件市場完全由Synopsys、Mentor、ASML-Brion等三家美國公司占領。

劉世元是華中科技大學集成電路測量裝備研究中心主任，同時也是光谷實驗室集成電路測量檢測技術創(chuàng)新中心主任。他早年師從華中理工大學前校長、著名機械學家楊叔子院士，于1998年獲工學博士學位。

2002年，從英國訪學歸國后不久，劉世元在學院派遣下，作為最早的幾個技術骨干之一，加盟上海微電子裝備有限公司(SMEE)，承擔國家863重大專項——“100nm光刻機”研制任務，為總體組成員、控制學科負責人。通過3年多的奮斗，他組建了SMEE第一個控制工程實驗室，解決了掃描投影光刻機中掩模臺、工件臺、曝光劑量等同步控制的技術難題。

2020年10月，劉世元成立宇微光學公司。目前，團隊除了2名行政人員外，全部為研發(fā)人員，他們來自中國、美國、俄羅斯等不同國家，在相關領域均為頂尖技術專家，30%以上成員擁有博士學位，具有豐富的行業(yè)經(jīng)驗。

下一步，宇微光學將加快產(chǎn)品推廣步伐，加快進入國內(nèi)外芯片制造廠商市場，力爭成為全球芯片產(chǎn)業(yè)鏈中重要的一環(huán)。